钨靶

钨靶

喷涂、烧结后的钨靶具有99%甚至更高的密度,平均透明纹理的直径为100um甚至更小,含氧20ppm或更少,偏转角力为500Mpa左右。提高未加工金属粉末的生产及其烧结的能力,能够使靶的成本降低。烧结后的钨靶密度高,具有传统的压制烧结方法所无法达到的高水准的透明框架,并且明显改善了偏转角力,以致颗粒物显著减少。常用于做溅射材料,镀膜材料。

钨靶材料:
钨靶尺寸:厚度( <20mm) x宽度 (<300mm) x 长度(500mm)
钨靶状态:平面
钨靶用途:PVD涂料工业、X射线管等