鉬濺射靶材

基於鉬的高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環保性能。

鉬濺射靶可在各類基材上形成薄膜，這種濺射膜廣泛用作電子部件和電子產品，如目前廣泛應用的TFT-LCD（Thin Flim Transitor - Liquid Crystal Displays，薄膜半導體管 - 液晶顯示器）、等離子顯示屏、無機光發射二極管顯示器、場發射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調諧功函數CMOS（互補金屬氧化物半導體）的場效應晶體管柵極等。

濺射鍍膜的主要應用於：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(主要包括建築玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。

產品說明:
鉬靶、鉬濺射靶、可旋轉鉬濺射靶、可旋轉鎢濺射靶、特制鉬靶、鎢鉬合金靶。
純度:99.95% 99.9%；
形狀：鋁板、箔、片、盤、棒、管、坩堝；
厚度>2毫米， 寬度<500毫米， 長度< 1000毫米。