钼溅射靶材

基于钼的高熔点、高电导率、较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。

钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜,这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD(Thin Flim Transitor - Liquid Crystal Displays,薄膜半导体管 - 液晶显示器)、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。

溅射镀膜的主要应用于:平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、(磁、光)记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等。

产品说明:
钼靶、钼溅射靶、可旋转钼溅射靶、可旋转钨溅射靶、特制钼靶、钨钼合金靶。
纯度:99.95% 99.9%;
形状:铝板、箔、片、盘、棒、管、坩埚;
厚度>2毫米, 宽度<500毫米, 长度< 1000毫米。

纯钼

材料 纯钼(99.95%)
表面 磨到32拉
过程 锻造—烧结-研磨
应用 电子工业
尺寸 宽度:300mm最大,长度:1100mm最大